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產(chǎn)品介紹：
品牌:SINZEN（新澤儀器） 型號:TK-1100系列 廠家:山東新澤儀器有限公司
系統(tǒng)概述：
TK-1100氨逃逸在線監(jiān)測系統(tǒng)采用高溫伴熱抽取技術(shù)，對脫硝過程中的氨逃逸進(jìn)行連續(xù)在線監(jiān)測，系統(tǒng)由取樣及傳輸單元、預(yù)處理及控制單元、分析單元三部分構(gòu)成，主要應(yīng)用于眾多工業(yè)領(lǐng)域氣體排放監(jiān)測和過程控制。例如：燃煤發(fā)電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、垃圾發(fā)電站、水泥廠、和化工廠、玻璃廠等。
分析儀采用TDLAS技術(shù)（可調(diào)諧半導(dǎo)體激光光譜吸收技術(shù)Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy），為目前國際最.先進(jìn)的氣體測量方法之一，該儀表具有靈敏度高、響應(yīng)速度快、不受背景氣體干擾、非接觸式測量等特點(diǎn)，為實(shí)時準(zhǔn)確地反映NH3變化提供了可靠保證。
氨逃逸形成及危害
1 氨逃逸的形成
在大規(guī)模燃燒礦物燃料的領(lǐng)域，例如燃煤發(fā)電廠，都安裝了前燃（pre-*bustion)或后燃（post *bustion）NOX 控制技術(shù)的脫硝裝置，后燃NOX 控制技術(shù)可以是選擇性催化還原法(SCR) 也可以是選擇性非催化還原法(SNCR)，但是無論應(yīng)用哪種方法，基本原理都是一樣的，即都是通過往反應(yīng)器內(nèi)注入氨與氮氧化物發(fā)生反應(yīng)，產(chǎn)生水和N2。注入的氨可以直接以NH3 的形式，也可以先通過尿素分解釋放得到NH3 再注入的形式，無論何種形式，控制好氨的注入總量和氨在反應(yīng)區(qū)的空間分布便可以降低NOX 排放。
氨注入的過少，就會降低還原轉(zhuǎn)化效率，氨注入的過量，不但不能減少NOX 排放，反而因?yàn)檫^量的氨導(dǎo)致NH3 逃逸出反應(yīng)區(qū)，逃逸的NH3 會與工藝流程中產(chǎn)生的***鹽發(fā)生反應(yīng)生成***銨鹽，且主要都是重***銨鹽。銨鹽會在鍋爐尾部煙道下游固體部件表面上沉淀，例如沉淀在空氣預(yù)熱器扇面上，會造成嚴(yán)重的設(shè)備腐蝕，并因此帶來昂貴的維護(hù)費(fèi)用。在反應(yīng)區(qū)注入的氨分布情況與NO和NO2 的分布不匹配時也會出現(xiàn)氨逃逸現(xiàn)象，高氨量逃逸的情況伴隨著NOX 轉(zhuǎn)化效率降低是一種非常糟糕的現(xiàn)象和很嚴(yán)重的問題。
2氨逃逸的危害
（1）逃逸掉的氨氣造成資金的浪費(fèi)，環(huán)境污染；
（2）氨逃逸將腐蝕催化劑模塊，造成催化劑失活（即失效）和堵塞，大大縮短催化劑壽命；
（3）逃逸的氨氣，會與空氣中的SO3生成***氨鹽（具有腐蝕性和粘結(jié)性）使位于脫銷下游的空預(yù)器蓄熱原件堵塞與腐蝕；
（4）過量的逃逸氨會被飛灰吸收，導(dǎo)致加氣塊（灰磚）無法銷售；
主要技術(shù)參數(shù)：
1.測量原理：激光吸收光譜（TDLAS）
2.吹掃氣體：（0.4-0.6）MPa壓縮空氣
3.量程范圍：0-10.0ppm，0-50.0ppm 可根據(jù)用戶需求設(shè)定
4.測量精度：≤±2%F.S.
5.重復(fù)性：≤±2%F.S.
6.T90響應(yīng)時間:<15s
7.零點(diǎn)漂移：≤±2%F.S./7d
8.量程漂移：≤±2%F.S./7d
9.模擬接口：最.大4路4-20mA輸出 （可靈活配置）
10.繼電器輸出：多路，可靈活配置
11.開關(guān)量輸入：多路，可靈活配置
12.通訊接口：1路RS-232，1路RS-485 ，支持Modbus協(xié)議
13.電源：AC220V <3kW
14.樣氣流量：2～20L/min（可根據(jù)用戶需求定制）
15.環(huán)境溫度：-20~+50℃
16.環(huán)境濕度：0%~95%RH
17.光通道長度：700mm
18.電源：AC220V <3KW
19.防護(hù)等級：IP54
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