NanoFlip納米壓痕儀可以提供您的材料研究實(shí)驗(yàn)室?guī)頍o限的便捷。 高性能多功能性是NanoFlip設(shè)計(jì)的標(biāo)志，當(dāng)需要進(jìn)行成像集成，需要進(jìn)行頻繁的轉(zhuǎn)換和廣泛的樣本控制時(shí)，無論是環(huán)境測(cè)量還是原位測(cè)試，無論有無真空，都能提供同樣出色的結(jié)果。

革命性的Fib2Test技術(shù)允許用戶將樣品傾斜90度，以便在雙光束SEM內(nèi)從FIB無縫過渡到壓痕測(cè)試，而無需移除樣品。

 

設(shè)計(jì)為完全真空兼容，并且具有獨(dú)特的樣品觸發(fā)功能，NanoFlip非常適用于現(xiàn)場(chǎng)環(huán)境，如SEM，F(xiàn)IB和真空室，或者當(dāng)您的實(shí)驗(yàn)帶您遷移時(shí)，可以在任何情況下工作 可以想象的成像系統(tǒng)，如AFM，光學(xué)顯微鏡和光學(xué)Pro測(cè)量?jī)x，為您提供幾乎無限的成像選項(xiàng)。

項(xiàng)目	規(guī)范
執(zhí)行機(jī)構(gòu)
位移測(cè)量	電容式儀表
位移范圍	50um
位移分辨率	0.004nm
典型的噪音	<0.1nm
加載應(yīng)用程序	線圈/磁鐵
最大負(fù)載	50mN
加載分辨率	3nN
硬度計(jì)壓強(qiáng)剛度	200N/m
阻尼系數(shù)	0.05N-s/m
共振頻率	150Hz
控制器
數(shù)據(jù)采集速率	100kHz
CPU控制速率	1000Hz
時(shí)間常數(shù)	20us或更高
動(dòng)態(tài)激勵(lì)頻率	0.1Hz-0.1kHz

電磁執(zhí)行器用于Nanomechanics生產(chǎn)的所有系統(tǒng)，包括NanoFlip。 這些執(zhí)行器是堅(jiān)固的線性裝置，固有地解耦力和位移。 它們的最大力為50 mN，分辨率為3 nN，超低噪聲電流小于200 nN。

NanoFlip的時(shí)間常數(shù)為20微秒，是唯一同時(shí)符合規(guī)格的商用納米壓痕儀，最大壓痕行程為50μm，噪聲<0.1nm，數(shù)字分辨率為0.004 nm，漂移率為< 0.05nm/s。

為了確保業(yè)內(nèi)最廣泛，最可靠的數(shù)據(jù)，NanoFlip能夠?qū)崿F(xiàn)0.1 Hz至1 kHz的動(dòng)態(tài)激勵(lì)頻率。

樣品臺(tái)移動(dòng)，Z軸為25 mm，X為21 mm，Y軸為21 mm，分辨率為nm，可在大面積上精確定位樣品。

載荷框架剛度> 7 e5N/m

獨(dú)特的尖端校準(zhǔn)系統(tǒng)集成到軟件中，可實(shí)現(xiàn)快速，準(zhǔn)確和自動(dòng)的尖端校準(zhǔn)。

可用的方法包，包含聚合物，薄膜和生物材料的提示，方法和標(biāo)準(zhǔn)

用劃痕選項(xiàng)，最大正常載荷為50 mN，最大劃痕距離為2.5 mm，最大劃痕速度為500μm/ s。

可選的NanoBlitz地形和層析成像軟件，用于材料的3D和4D映射。